最近啊，有个大新闻引起了大家的关注，那就是台媒digitimes报道的：“浸润式光刻之父”林本坚表示，芯片制造工厂也可以依靠DUV光刻机将制程工艺从7nm推向5nm，但是需付出高昂代价。这话说得挺绕口的，但咱们慢慢来啊，一步步解释清楚。首先啊，咱们得知道，这个“浸润式光刻之父”林本坚是谁。简单来说啊，他就是光...
尽管传统观念认为，193nm浸润式DUV光刻机的极限只能达到7nm工艺，但科研人员的持续探索表明，通过采用多重曝光技术，这种光刻机竟然能够突破5nm的芯片工艺限制！然而，即便在技术上已取得如此突破，我们亦需保持谨慎。目前，7nm工艺已能充分满足众多应用需求，若我们盲目追求5nm工艺，不仅可能提升制造成本，还可能因技术...
掌握5nm级光刻机量产技术是中国在芯片制造领域的重大突破。这一突破的背后，是科研人员夜以继日的奋斗和不懈的努力。这个过程就像爬山，总是一个难关接着一个难关。首先是极紫外光源问题。光刻机要用极紫外光（EUV）来刻画芯片电路，但这种光源的制造异常困难。为了攻克这一难题，我们的科研人员绞尽脑汁，终于成功...
长期来看，还是得完善EUV光刻机产业链，逐步提升到5nm工艺。同时，探索一下纳米压印、粒子束光刻这些新技术，说不定能另辟蹊径。现在有些专家还挺乐观，觉得举国体制加上航天精密制造经验，能缩短研发周期，说不定2028年就能搞出实验机。但说实话，五年内实现5nm EUV光刻机量产，希望不大。不过，在成熟制程上实现...
东方大国在5nm封装和DUV光刻机出口限制放开上取得的突破，是技术进步和科研精神的双重胜利。但我们不能满足于现状，必须以更加坚定的信念和不懈的努力，继续攻克芯片领域的难题，实现从“跟跑”到“并行”再到“领跑”的转变。只有这样，我们才能在科技全球化的浪潮中，真正掌握核心技术，实现国家的科技强盛。
5nm工艺实现突破?爆料消息指出,我国已实现5nm成熟工艺封装光刻机的突破,尤其是在今年第二季度半导体产业还会有王炸级别技术亮相新机报告 立即播放 打开App,流畅又高清100+个相关视频 更多 11.3万 296 02:50 App 今日得知好消息有些语无伦次,2025下半年芯片反击时间基本确定 6.5万 56 00:17 App 国产光刻机...
而真正“卡住”国内企业的是光刻技术，目前就连DUV光刻机都要高度依赖于ASML，而最先进的EUV光刻机更是被限制进口，这也出现了两极分化的状态，在芯片设计上已经突破了5nm水准，但在制程工艺上仅为14nm。ASML被老美施压断供DUV光刻机，但却以强硬的拒绝了，显然已经嗅到了“危险信号”，日企佳能开建全新的光...
中国自主研发光刻机：将突破5nm，找回中国半导体产业失去的30年 作为当今世界上最具影响力的两个国家，美国和中国在半导体领域的竞争尤为激烈。美国不仅对中国发起了科技封锁和贸易限制，还在关键装备领域频频出手，试图通过各种手段遏制中国的科技发展。就在外界普遍认为中国会因此受到重大影响时，中国却通过自主研发取得了...
光刻机技术正蓬勃兴起，7nm的胜利已触手可及，5nm的突破也在望眼欲穿。我们曾与世界半导体行业相隔三十载，但如今，我们将奋力追赶，一一弥补过去的差距，重铸辉煌！这项光刻机的突破，无疑为我国半导体行业注入新的活力。回首过往，我们错失的发展机遇令人扼腕，但如今，我们正站在新的起点，期待着这项创新技术...
如今这项多重曝光技术得到中国芯片行业的青睐，则在于中国芯片行业难以得到EUV光刻机，选择多重曝光技术实属无奈，但是如果采用这项技术实现5纳米工艺，对于中国芯片行业来说则是重大突破。由于众所周知的因素所影响，中国的手机芯片、AI芯片等等都无法由台积电以先进的5纳米工艺生产，这对中国芯片行业影响巨大，毕竟更...