也就是说，现阶段我们不仅要面对光刻高难度的研发困境，还要面对外界密不透风的封锁困境。然而，或许ASML也没想到，反转来得这么快，与美联手围剿我国光刻机的计划会就此泡汤。事情是这样的，在今年二月份突破了EUV核心光源技术的清华大学，再次传出好消息。如今已突破了光源技术适用于各个场景的关键难点。这意味着，...
摘要 【光刻机研制为什么难】光刻机作为重大技术装备领域的国之重器,不仅是衡量一个国家综合国力与科技水平的关键指标,还直接关系到国家安全和科技自主可控的未来。然而,其研制之路却异常艰难,充满了重重挑战。近期,工业和信息化部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中,特别将氟化氪光刻机与...
突然也传来了好消息，可以投入使用，它的出现可以是可以用于EUV光刻机中的光镜头，要知道世界上目前只有一家公司能够生产这个镜头，很多人也都了解过光刻机它的光学镜头、双工件台和双工件台，我国进展的如此之快，不仅令外国人感到惊讶，央视也说这是我国半导体发展的里程碑，相信用不...
重新振作起来，用新的眼光来审视这个市场，而不是拘泥于自己套牢的股票。
突破硅片测量难点。国产光刻机突破芯片尺寸28nm的关键,在荷兰asml公司的一台光刻机中要配套使用4只高精度的调节芯片水平的产品 ZEROTRONIC 来调平 wafer ,目前市场上的国产光刻机还是处于90nm、40nm的尺寸,需要在芯片 - 测量说于20240917发布在抖音,已经收获了31个喜欢
大陆芯片制造龙头中芯国际目前卡在7nm无法突破,所以从技术层面看确实比较落后。 落后的一个重要原因是,制造芯片需要一种神器加持——光刻机。 芯片制造核心武器:光刻机 在芯片产业链中,制造困难、工艺复杂的光刻机是其关键所在。 它在全球科技界的地位,就像蒸汽机、发电机、计算机之于前三次工业革命。