而在此之前,技术最先进的国产光刻机应为上海微电子的 SSX600 系列90nm 光刻机。 02. 套刻精度 ≤8nm,意味着什么 IT之家的家友们可能对于“套刻精度 ≤8nm”这个参数有所疑问,这里我们就要从多重曝光工艺聊起。 ASML 浸润式 DUV 光刻机的分辨率为 ≤38nm,但是却可以支撑台积电 N7 工艺的生产,靠的就...
经过数年如一日的潜心钻研，中国终于在 28纳米光刻机领域实现重大突破。这台国产光刻机的诞生，意义非凡。它不仅打破了外界对“中国造不出光刻机”的偏见，实现了 90%核心零部件的自主可控，还通过多重曝光技术具备制造 7 纳米芯片的能力，如同在科技发展的地图上开启了一条全新路径，解锁了更多的发展机遇。这一...
不久前，一则消息将国产光刻机推上了热搜，有媒体称国产8nm制程光刻机问世，突破7nm甚至5nm也将指日可待。尽管大家都愿意看到国产光刻机获得重大突破，但这一消息实属谣言。要知道，上海微电子作为中国光刻机第一巨头，其国内市场份额超过80%，但还未踏足10nm芯片制程领域，更别说8nm了。面对中国网友的“自嗨...
中国光刻机实现重大突破，一直是中国人关注的焦点，从90nm至65nm，为了实现光刻机技术的突破，我们用了大约 6 年时间，然而从65nm至28nm，我们却仅仅只用了四个月的时间，这一消息震惊国人，为什么这么快？难道说14nm、7nm甚至是5nm、3nm，哪怕是2nm也用不了多久了？中国在光刻机领域实现了重大进展，65nm光刻...
直到最近，中国在7纳米光刻机专利上的重大突破，犹如一道曙光，照亮了半导体产业的“中国芯”之路。一、7纳米光刻机，半导体产业的制高点 1. 光刻机，半导体制造的“皇冠明珠”在半导体制造过程中，光刻机是最为关键的设备之一。它通过将电路图案投射到硅片上，形成微小的电路结构，是半导体制造中不可或缺的一环。
国产光刻机大突破！3纳米芯片指日可待，科技自立不再是梦 最近，科技圈传来了一则振奋人心的消息：咱们国内自主研发的光刻机取得了重大突破，3纳米国产芯片指日可待！这消息一出，可把不少老百姓都给乐坏了。毕竟，科技自立自强可是咱们国家一直以来的追求，如今终于看到了希望。那么，这光刻机到底是啥？为啥这么...
近年来，中国在光刻机领域取得了显著的突破，尤其是关于国产光刻机是否已突破28nm工艺节点的问题，备受关注。本文将深入探讨这一话题，分析国产光刻机的最新进展及其带来的深远影响。国产光刻机的最新进展 突破性的官方公告 2024年9月9日，工业和信息化部印发了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》...
根据有关报道，上海微电子正在进行 28nm 节点光刻机的研发。假使国产光刻机得到突破，有望推动半导体制造产业链国产化向前迈进 一大步，并打开光刻机及上游零部件供应的巨大市场。 在光刻机关键系统中，建议关注：福晶科技（光源）；富创精密、新莱应材（零部件）；茂 莱光学、波长光电（光学镜头）；华卓精科（工作...
假如我国持续在光刻机领域发力，实现类似极紫外光刻机技术的突破，每年单单光刻机和芯片进口就能节省超过2万多亿元人民币的花费。而且这还只是自我花费的节约，有了先进的光刻机，我们还可以进行光刻机和芯片的出口。这样里外里怕不是能够为国家产出3万亿人民币的财富，换算成美元，可以排到世界各国GDP排名的第30位...
就在荷兰宣布收紧管制的整整两周后，也就是7月16日，一个令全球瞩目的消息传来。国务院新闻办公室举行新闻发布会，正式宣布我国在光刻机领域取得重大突破，已经具备了90%以上的核心技术自主可控能力。这一消息一经公布，立即引发了国内外媒体的广泛关注和报道。短短两周时间里，我国光刻机产业从最初的被动应对，...