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光刻工艺中正性光刻胶与负性光刻胶的区别
光刻工艺中正性光刻胶与负性光刻胶的区别
2025-02-13 19:43:51
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正性、负性光刻胶
什么是光刻胶 光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求
若使用正胶+负显影进行光刻工艺 曝光的区域的光刻胶会被显影掉
光刻时使用的光刻胶在短波长光照射下会曝光 因此一般选用 作为照明光源 而不使用
光刻机、光刻胶
2、简述什么是光刻胶 根据溶解性的变化 光刻胶分为哪几类 他们的原理和特点是什么
光刻胶 l/s
曝光 刻蚀 显影 光刻胶有什么作用
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