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为什么要将注入的杂质形成离子又为什么离子注入工艺后必须进行退火而且是要采用快速退火
为什么要将注入的杂质形成离子又为什么离子注入工艺后必须进行退火而且是要采用快速退火
2025-02-27 20:22:08
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为什么要将注入的杂质形成离子又为什么离子注入工艺后必须进行退火而且是要采用快速退火
在离子注入后 通常采用退火措施 可以消除由注入引起的晶格损伤 常用的退火方式有
先进的离子注入工艺技术、设备技术及最新应用
为什么离子注入需要7°角
离子注入机运行时 离子束的 保证离子注入过程中 元素几乎是垂直地向内掺杂 横向扩散极其微小
8. 离子注入在半导体工艺中有哪些常见应用
离子注入自对准工艺形成p+区
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